1 学術講演会
- 日時
- 平成22年6月3日(木)8:55~12:00
4日(金)9:00~15:15
(発表10分,質疑応答5分,交代1分) - 開催場所
- 上智大学四谷キャンパス 中央図書館9F
〒102-8554 東京都千代田区紀尾井町7-1 - アクセス
- JR中央線,東京メトロ丸の内線・南北線 四ッ谷駅下車
麹町口・赤坂口より徒歩5分 - 6月3日(木)
- 6月4日(金)
8:55~9:00 | 開会のあいさつ 学術委員会委員長 三五弘之 | ||
9:00~10:00 | 座長 渡辺雄二郎 | ||
(1) | α型およびβ型半水セッコウの水和特性 | (日大理工)小嶋芳行・○星野裕太・遠山岳史・西宮伸幸 | |
(2) | 二酸化炭素とモノエタノールアミンを用いた炭酸カルシウムの合成 | (日大理工)小嶋芳行・○吉武 究・(アイシン精機)小山敏之・皆木 肇・脇本佳季・(日大理工)遠山岳史・西宮伸幸 | |
(3) | マグネシウム固溶炭酸カルシウムのキャラクター | (日大理工)○小嶋芳行・(吉澤石灰工業)伊東裕恭・(日大理工)遠山岳史・西宮伸幸 | |
(4) | 各種混合材を配合した水セメント比の大きなセメントペースト硬化体の透水性と透水による微細構造組織の変化 | (帝京科学大生命環境)○浅賀喜与志・神田 力・小川 大輔・長谷川善貴 | |
10:00~11:00 | 座長 武井貴弘 | ||
(5) | パイロフィライトによる水溶液中の芳香族炭化水素の吸着除去 | (物材機構)○橋爪秀夫 | |
(6) | 酸化マグネシウムによる重金属陽イオンの不溶化機構の解明 | (日大理工)小嶋芳行・大島史也・(太平洋セメント)○松山祐介・守屋政彦・(日大理工)西宮伸幸 | |
(7) | 酸化亜鉛の光触媒特性および酸溶解性を利用した貴金属微粒子の作製 | (岡山大院環境学)○西本俊介・亀島欣一・三宅通博 | |
(8) | ソルボサーマル反応によるセリア粒子の形態制御 | (東北大多元研)南舘正宙・殷シュウ・○佐藤次雄 | |
11:00~12:00 | 座長 斧田宏明 | ||
(9) | 各種リン酸塩溶液によるヨウ素含有ゼオライトAへのアパタイト被覆とアパタイト系複合焼結体内での熱安定評価 | (金工大)○渡辺雄二郎・三橋長治・(物材機構)山田裕久・(東工大)生駒俊之・(物材機構)末次 寧・(東工大)田中順三・(法大工)守吉佑介・(金工大)小松優 | |
(10) | リン酸-セッコウ系固体電解質の作製と評価 | (中部大工)○福島さおり・桜井 誠・前田水脈子・渡辺 誠 | |
(11) | 二価と三価金属イオンを固溶したβ型リン酸三カルシウムの二相成分で構成された焼結体の作製 | (千葉工大工)○高橋恵利・松本尚之・(東工大原子炉工学)吉田克己・(千葉工大工)橋本和明・戸田善朝・宇田川重和・金澤孝文 | |
(12) | 二価金属イオン固溶α-リン酸三カルシウムセメントの水和活性と硬化性 | (工学院大工)○細井佑司・門間英毅・大倉利典・(法大工)守吉佑介 |
9:00~10:00 | 座長 大倉利典 | ||
(13) | ホウ素含有アパタイトセラミックスの特性評価 | (明大理工) ○市村達哉・相澤 守 | |
(14) | 塩添加超音波噴霧熱分解法によるリン酸カルシウム微小球の合成とその薬剤徐放特性 | (明大理工) ○川延勇介・(神奈川科学技術アカデミー) 本田みちよ・(上智大理工) 神澤信行・(明治大理工・神奈川科学技術アカデミー) 相澤 守 | |
(15) | 銀担持アパタイトコーティング膜のキャラクタリゼーションとその抗菌性評価 | (明大理工)○干川智之・(慶應大医)船尾陽生・石井 賢・戸山芳昭・松本守雄・(明大理工)相澤 守 | |
(16) | 水酸アパタイトと熱可塑性樹脂との複合化により作製した新規骨止血剤の性質 | (上智大理工) ○濱 睦・梅田智広・(東邦大医)武者芳朗・(上智大理工)幸田清一郎・板谷清司 | |
10:00~11:00 | 座長 相澤 守 | ||
(17) | リン酸チタン白色顔料の作製及び尿素添加効果 | (京都府大生環)○山口泰輔・斧田宏明・(米子高専)竹中敦司 | |
(18) | MgO-ZnO-P2O5系高レベル放射性廃棄物ガラス固化体の耐水性評価 | (工学院大工)○今井隆晶・大倉利典・門間英毅 | |
(19) | ストロンチウム-リン酸アパタイト化合物の水熱合成とエタノールの反応に対する触媒特性 | (高知大理)〇恩田歩武・小河脩平・柳沢和道 | |
(20) | レーザー誘起結晶化による酸化物ガラス表面への二次元結晶パターニング | (長岡技大)○小松高行・鈴木太志・本間 剛 | |
11:00~12:00 | 座長 佐藤次雄 | ||
(21) | SPS焼結による固溶体の緻密化と組成分布変化 | (千葉大院工) ○掛川一幸・吉田和典・上川直文・小島 隆 | |
(22) | 酸化ガドリニウム-酸化アルミニウム系共晶の非晶体からの結晶化過程 | (千葉大院工)○高橋友希・小島 隆・上川直文・(Kyungnam Univ.)Jundo Yun・(千葉大院工)掛川一幸 | |
(23) | 二種類のテンプレート化合物を用いたマガディアイトとSi-ZSM-5の水熱合成 | (吉澤石灰工業)○岡田礼佳・伊東裕恭・(物材機構)小澤清・(栃木産技セ)佐伯和彦・(足利工大) 荻原俊夫・磯文夫 | |
(24) | ゼオライトABWの生成過程に及ぼす出発物質の影響 | (栃木産技セ)○松本泰治・湯澤修孝・(鉄道総研)上原元樹・水野 清・(龍谷大)後藤義昭 | |
13:00~14:00 | 座長 小嶋芳行 | ||
(25) | 噴霧熱分解粉体の炭素熱還元窒化によるEu2+付活アルカリ土類窒化ケイ素の合成と蛍光特性 | (上智大理工)〇山口一陽・桑原英樹・関根智幸・黒江晴彦・ 赤星大介・(Eindhoven Univ. Technol.) H. T. Hintzen・(上智大理工) 幸田清一郎・板谷清司 | |
(26) | セリウム付活酸窒化ケイ素バリウムの蛍光特性に及ぼす母体元素置換の影響 | (上智大理工)○佐々木貴之・山口一陽・桑原英樹・関根智幸・黒江晴彦・赤星大介・(Eindhoven Univ. Technol.) H. T. Hintzen・(上智大理工)幸田清一郎・板谷清司 | |
(27) | 還元窒化法によるCe3+付活ランタンシリコンナイトライド系蛍光体の合成 | (東北大多元研)○末廣隆之・(物材機構)広崎尚登・(東北大多元研)佐藤次雄 | |
(28) | 希土類イオン添加Na2O-Y2O3-SiO2系結晶化ガラスの作製と光ルミネッセンス特性 | (工学院大工)○野島裕太・大倉利典・門間英毅 | |
14:00~15:15 | 座長 遠山岳史 | ||
(29) | 焼成コレマナイトの木材への含浸の基礎特性(Ⅱ) | (法大工)○池谷崇・遠藤正宣・丸山つかさ・(兼松日産農林)森若専太・手塚大介・(産総研)遠藤茂寿・(法大工)守吉佑介・大河内正一 | |
(30) | プロトン型元素部分置換バーネサイトHxMn1-yMyO2・nH2Oの作製 | (山梨大院医工)○武井貴弘・米崎功記・熊田伸弘・木野村暢一 | |
(31) | リチウム二次電池用正極活物質LiMPO4の水熱合成と電気化学特性 | (首都大院環境)○水野雄太・棟方裕一・金村聖志 | |
(32) | 水熱法を用いたマイクロリチウム二次電池用LiCoO2微粒子の合成 | (首都大院環境)○吉間一臣・棟方裕一・金村聖志 | |
(33) | β型リン酸三カルシウム結晶構造中における陰イオンの固溶形態 | (千葉工大工)○横矢彩乃・松本尚之・(東工大原子炉工学)吉田克己・(千葉工大工)橋本和明・戸田善朝・宇田川重和・金澤孝文 | |
15:15 | 閉会のあいさつ 東部支部長 町長 治 |
2 第61回総会・学会表彰
日 時 | 平成22年6月3日(木)13:00~14:00 |
場 所 |
上智大学四谷キャンパス 中央図書館9F ○正会員のかたは,本紙綴じ込みの総会出欠通知(はがき)にご記入のうえ,5月25日(火)までに必ず学会事務局にご返送ください. |
3 参加登録費
(1) | 事前申込(5月25日申込受付分まで) | |
講演会 | 正会員・維持会員代表者 4,000円 学生会員 2,000円 維持会員所属者(一括申込に限る)5,000円 非会員 6,000円 |
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(2) | 当日申込(5月26日以降) | |
講演会 | 正会員・維持会員代表者 5,000円 学生会員 3,000円 非会員 7,000円 |
4 参加申込方法
(1) | 事前申込(5月25日まで) |
本会告最終ページの様式要領によって,平成22年5月25日(火)までに,参加登録費を本誌差込の郵便払込取扱票にてお振り込みいただき,払込票兼受領証(コピー可)を添えて,下記あてお申し込みください. | |
(2) | 当日申込(5月26日以降) |
当日,受付にて備付けの参加申込書にご記入のうえ,参加費をお支払いください.なお,維持会員所属者の申込み受付は、5月25日までとなっております. | |
口座番号 | 00240-6-84627 |
加入者名 | 無機マテリアル学会東部支部 |
連絡先 | 〒275-8575 千葉県習志野市泉町1-2-1 日本大学生産工学部 町長 治 Tel 047-474-2563(直通),Fax 047-474-2579(事務室) E-mail machinaga.osamu@nihon-u.ac.jp |
5 注意事項
講演中の写真撮影・録画・録音はご遠慮ください. |